在PCB生產(chǎn)過程中涉及到工序比較多,每一道工序都有發(fā)生質(zhì)量缺陷的可能,這些質(zhì)量總是涉及到多個方面,解決起來比較麻煩,由于產(chǎn)生問題的原因是多方面的,有的是屬于化學(xué)、機(jī)械、板材、光學(xué)等等方面。經(jīng)過十年多年的生產(chǎn)實踐的錦宏電路,結(jié)合解決質(zhì)量總是實際經(jīng)驗和有關(guān)的解決技術(shù)問題的相應(yīng)資料,現(xiàn)總結(jié)歸納如下

　　工序產(chǎn)生缺陷產(chǎn)生原因解決方法

　　1、貼膜板面膜層有浮泡板面不干凈檢查板面可潤性即干凈的表面能保持水均勻、連續(xù)水膜時間長達(dá)1分鐘

　　2、貼膜溫度和壓力過低增加溫度和壓力

　　3、膜層邊緣翹起由于膜層張力太大,致使膜層附著力差調(diào)整壓力螺絲

　　4、膜層縐縮膜層與板面接觸不良鎖緊壓力螺絲

　　5、曝光解象能力不佳由于散射光及反射光射達(dá)膜層遮蓋處減少曝光時間

　　6、曝光過度減少曝光時間

　　7、影象陰陽差;感光度太低使最小陰陽差比為3:1

　　8、底片與板面接觸不良檢查抽真空系統(tǒng)

　　9、調(diào)整后光線強(qiáng)度不足再進(jìn)行調(diào)整

　　10、過熱檢查冷卻系統(tǒng)

　　11、間歇曝光連續(xù)曝光

　　12、干膜存放條件不佳在$光下工作

　　13、顯影顯影區(qū)上面有浮渣顯影不足,致使無色膜殘留在板面上減速、增加顯影時間

　　14、顯影液成份過低調(diào)整含量,使達(dá)到1.5 ~ 2%碳酸鈉

　　15、顯影液內(nèi)含膜質(zhì)過多更換

　　16、顯影、清洗間隔時間過長不得超過10分鐘

　　17、顯影液噴射壓力不足清理過濾器和檢查噴咀

　　18、曝光過度校正曝光時間

　　19、感光度不當(dāng)最大與最小感光度比不得小于3

　　20、膜層變色,表面不光亮曝光不足，致使膜層聚合作用不充分增加曝光及烘干時間

　　21、顯影過度減少顯影時間,較正溫度及冷卻系統(tǒng),檢查顯影液含量

　　22、膜層從板面上脫落由于曝光不足或顯影過度,致使膜層附著不牢增加曝光時間、減少顯影

　　23、時間和整正含量

　　24、表面不干凈檢查表面可潤性

　　25、貼膜曝光后,緊接著去顯影貼膜后曝光后至少停留15 ~ 30分鐘

　　26、電路圖形上有余膠干膜過期更換

　　27、曝光不足增加曝光時間

　　28、底片表面不干凈檢查底片質(zhì)量

　　29顯影液成份不當(dāng)進(jìn)行調(diào)整

　　30、顯影速度太快進(jìn)行調(diào)整